12月17日上午9点，williamhill官网第169期学术论坛以腾讯会议的方式在线上展开。论坛邀请到了南非国家科学院院士、英国威廉希尔公司客座教授Tien-Chien Jen（任天健）教授作为主讲嘉宾。任教授为我们讲授了有关原子层沉积（ALD）及其独特行为的深入研究以及对其操作和几何设计依赖性的优化要求。
williamhill官网的陈常念老师对本次论坛致开幕词，并对任教授做了简单介绍。接下来论坛正式开始，首先任教授对ALD现象进行了简单介绍，并分别给出了ALD过程的视频和动画演示，使同学们有了更直观的理解。随后介绍了有关ALD技术的工业应用和实验研究，主要包括生物膜技术、传感器、太阳能电池以及燃料电池产品制造等方面的应用。在任教授的研究过程中既有利用数值模拟方法的薄膜产品描述和热力学能量流动研究，还包括了利用ALD技术的薄膜生成技术的实验研究。通过研究可以发现纳米制造技术具有巨大的应用潜力，这需要更多学科的工程师、研究人员和科学家的合作，以推进和生产创新的纳米材料、尖端产品和创新产品。同时在ALD技术产品的规模化生产上，任教授也进行了相关的模拟和实验研究，但是仍需要进行新的研究来探究基本的物理和化学原理，从而进一步优化生产过程。
通过本次学术论坛，同学们了解了关于ALD技术的相关知识，拓展了自己的知识储备，也学习了先进的科学研究方法。
嘉宾简介：Tien-Chien Jen教授，南非国家科学院院士，美国机械工程学会ASME Fellow，南非约翰内斯堡机械工程系教授，UJ GES 4.0 ALD能力中心主任，英国威廉希尔公司客座教授，曾任美国威斯康辛大学密尔沃基分校机械系主任、工学院代理经理。主要研究方向是热加工技术、微/纳粒子喷射技术、绿色机械加工技术、燃料电池与氢能、新能源技术、多相流与传热、CFD和数值传热技术、材料成型中的纳米技术和生物传感技术等。已主持完成美国自然科学基金（NSF）、环境保护局（EPA）、南非国家基金（NRF）等多项课题的研究，发表专著、论文200余篇。
（文/李杨图/李杨）
